光刻机|上海微电子之后，又有中企光刻机投入商用，已拿下国内第一( 二 ) 微电子|上海市|手机行业

光刻机产业发展到现在，一共经历了五代工艺，按照光源来划分，分别是g-line、i-lien、KrF、ArF、EUV 。最高端的是EUV光刻机波长为13.5nm ，用于量产高端芯片。
通过对照可以发现，接近式光刻机的工艺进程还处在低端阶段，拓展性很强。
不过光刻机的价值不能完全用工艺进程来衡量，还需要看使用需求。如果只是简单的分立器件制造，或者造成熟制程芯片，根本不需要顶级光刻机，中低端光刻机也能行。

上海微电子做的是封装光刻机，看似价值不如前道光刻机，但随着封装产业的持续发展，许多行业巨头开始重新规划先进封装技术。大力布局芯片堆叠，小芯片技术等。
如此一来，上海微电子的封装光刻机会迎来更多的市场机会。所以找到适合的发展方向也有重要，在符合自身发展需求的背景下，往往能得到更大的产业回报效率。
同样的道理，大族激光接近式光刻机投入市场，也是按照自身需求来发展，意义更大。