国望光学突破了28nm的ArF浸没式光刻曝光光学系统 ， 启尔机电突破了浸液系统 。
可以说 ， 国产DUV光刻机国产条件已经具备 ， 如今未正式推出 ， 应该是在进行最后的测试 。 对此 ， ASML应该最为了解 ， 所以才会说出中企将很快造成高水平的光刻机 。
当然 ， 我们必须正确认识到光刻机方面的差距 ， 接下来依然需要静下心 ， 继续加大研发力度 ， 争取尽快打造出完全自主可控的芯片产业链 ， 彻底摆脱“卡脖子”限制！
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