拜登傻眼了！国产新型光刻机已正式投入使用，外媒：中国太可怕( 二 ) 近日

【拜登傻眼了！国产新型光刻机已正式投入使用，外媒：中国太可怕】其实，光刻机不是只有制造芯片那一种，除了按光源先进程度分为EUV、DUV、UV以外，按用途还可分为制造芯片用的前道光刻机和封测用的后道光刻机。要知道我国在封测领域目前可是处于全球领先水平，而上海微电子在封测光刻机领域的市场份额也举足轻重，在国内市场已经达到80%左右，在全球市场也能占到40% 。早在去年，上海微电子就已经推出了首台2.5D/3D先进的封装光刻机。

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2、国产接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化
这个好消息是从大族激光传来的。这家企业虽然我们之前没怎么听说过，但是也很了不起。 1996年成立于深圳，是国家重点高新技术企业，主营方向是激光加工的解决方案及相关的配套设施。在激光行业名气非常大，甚至占据了激光行业的“半壁江山” 。

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让人头疼的是，这里又出来两个新名词：接近式光刻机和步进式光刻机，下面小编来简单介绍一下。
先说接近式光刻机，它是一种特殊的光刻机，它使用接近光学系统来制作图案。它的优点很多，可以概括为“三高” ，不过指的可不是高血压、高血糖、高血脂，而是高精度、高速度、高效率。一般用于制造微纳米级的半导体器件、生物医学微器件等。

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再看步进式光刻机，它是最早的光刻机之一，早在上世纪60年代就开始应用于半导体制造了。它通过使用光学系统，能在基材上制作出很多份相同的图案。
它的优点是“两高”——高速度、高效率，是制造大批量半导体芯片等产品的理想工具，是光刻技术不可或缺的组成部分，在半导体制造、微纳米加工、生物医学等领域多有应用。

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通过以上两个好消息，我们可以感受到，即便是在国外的重重技术封锁下，我国对光刻机的研究非但从未放弃过、停止过，而且更加积极、主动，动力十足，所以才有了上面那些最新的研究成果。相信有国家对我国半导体产业的持续加大投入，以及全中国科研人员的共同努力攻关，中国的国产光刻机一定能加速发展，中国芯的崛起指日可待！

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